1. 에틸렌(C2H2) 산화 : 아세트알데히드(CH3CHO) 산화 : 산화에틸렌(CH2OCH2) H2O : C2H5OH C6H6 : 에틸벤젠(C6H5(CH2CH3)) 2. 순수 HCl 가스 제조법 : 진한염산증류법 : 직접합성법 : 흡착법 3. 열분해와 접촉분해 : 타코⬇️ (열) 지방⬆️ (타르, 코크스, 열분해, 지방족탄화수소, 방향족탄화수소) : 방파지⬇️ (접) 탄디올⬆️ (방향족탄화수소, 파라핀계, 지방족탄화수소, 접촉분해, 탄화수소, 디올레핀, 올레핀) 4. 반도체 공정 : 감광되지 않는 부분을 제거하는 공정 : 에칭공정 : 감광성 고분자로 실리콘 웨이퍼에 회로를 잊히는 공정 : 리소그래피 : 오염물처리 공정 : 세정공정 5. 격막법과 수은법 순도는 격막법이 염화물등을 함유하고 있기 때문에 수..